半导体加热远红外技术的应用

食品科学 ›› 1986, Vol. 7 ›› Issue (2): 53-57.

半导体加热远红外技术的应用

徐景福

河南省轻工业科学研究所

出版日期:1986-02-15 发布日期:2012-02-04

XU Jing-Fu

Online:1986-02-15 Published:2012-02-04

摘要/Abstract

摘要： <正>我国最早应用远红外技术是在1958年,当时使用远红外灯泡。1966年开始推广使用氧化镁管和碳化硅板辐射源。1974年引进远红外加热技术后,各有关单位进行了大量的研制、试验和推广工作,取得了明显的效果。其后,国家有关部门组织了产品的定点、标准化、系列化生产。这对我国在远红外加热技术的应用起了很大的促进作用。

关键词: 远红外加热技术, 远红外技术, 红外元件, 多晶半导体, 辐射距离, 发热元件, 辐射器, 碳化硅, 半导体材料, 烘道

徐景福. 半导体加热远红外技术的应用[J]. 食品科学, 1986, 7(2): 53-57.

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